A.中国人张某可以将其创作的集成电路布图设计申请保护

B.某产品制造有限公司可以将其创作的集成电路布图设计申请保护

C.受保护的集成电路布图设计是为制作半导体集成电路而设计的操作方法

D.受保护的集成电路布图设计需能实现某一电子功能

E.受保护的集成电路布图设计可以是公认的常规设计

正确答案：A、B、D

答案解析:受保护的集成电路布图设计专有权的保护客体应是为制作半导体集成电路而设计的三维配置。其应具备独 创性，不可以是公认的常规设计。

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