光刻机是一种先进的微电子制造设备，其主要作用是在半导体芯片制造过程中进行微米级别的图案转移。近年来，随着科技的不断进步，光刻机的制造技术和性能也不断提升。中国在光刻机技术方面也取得了一定的成就，目前已经能够实现纳米级别的制造。

在光刻机制造的过程中，最关键的是光刻胶的制备和图案转移技术。光刻胶是一种在光照下能够发生化学反应的物质，通过对光刻胶进行光刻，可以将芯片上的电路图案转移到硅片上。目前，中国的光刻胶制备技术已经相当成熟，能够生产出高质量、高精度的光刻胶。

除了光刻胶的制备技术外，光刻机的制造也是关键的因素。中国的光刻机制造商已经掌握了核心的技术，能够生产出高精度、高性能的光刻机。目前，中国的光刻机制造商已经能够生产出分辨率达到2纳米的光刻机。

需要指出的是，要想实现纳米级别的制造，不仅需要先进的光刻机技术，还需要一系列配套的技术，如高纯度化学品、高精度的测量仪器等。中国在这些配套技术方面也在不断提升，为实现纳米级别的制造提供了支持。

总之，中国在光刻机技术方面已经取得了一定的成就，能够实现纳米级别的制造。未来，中国的光刻机技术将继续不断发展，为半导体芯片制造提供更加先进的工具和技术支持。